DNP、3nm相当のフォトマスク製造プロセスを開発:EUVリソグラフィ向け - EE Times Japan
投稿日:
大日本印刷(DNP)は、3nm相当のEUV(極端紫外線)リソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発した。DNPは今後も、imecとの共同開発などを通じて、2nm関連キーワードはありません
Copyright© 印刷 | KURAGE online , 2024 All Rights Reserved Powered by STINGER.