大日本印刷、先端半導体製造向け10nmテンプレートを開発 - Investing.com

大日本印刷は2027年に量産開始を目指している。 NIL装置を製造するキヤノンは、現在の技術が5ナノメートル相当までサポートしており、2ナノメートルに関連キーワードはありません