動作電圧1Vの高性能TFT素子を印刷のみで作製

物質・材料研究機構（NIMS）は2021年5月、低温焼結塗布型シリカ（LCSS）をゲート絶縁層に用い、全ての層を印刷プロセスで製造したTFT素子を関連キーワードはありません