NILによる超微細半導体の省エネルギー加工技術」が「環境賞」を受賞

キヤノン、大日本印刷、キオクシアは共同で、既存の半導体製造レベル（最小線幅15nm※2）のNILによるパターン形成に成功している。これは、現在の最先端ロジック関連キーワードはありません