「NILによる超微細半導体の省エネルギー加工技術」が「環境賞」を受賞 最先端ロジック製造の ...

キヤノン、大日本印刷、キオクシアは共同で、既存の半導体製造レベル（最小線幅15nm（※2））のNILによるパターン形成に成功しています。これは、現在の最先端関連キーワードはありません