KURAGE online | 印刷 の情報 > 非真空の印刷法による高品質SiGe半導体の製造法、名大などが開発 投稿日:2022年9月15日 名古屋大学(名大)などは、特殊なペーストをシリコン単結晶基板に印刷して熱処理を行うことで、高品質な「SiGe半導体」を非真空で実現することに成功したと関連キーワードはありません 続きを確認する