大日本印刷、3nm相当のEUV露光向けフォトマスク製造プロセスを開発 - PC Watch

大日本印刷は今後、新たにマルチ電子ビームマスク描画装置を増設し、2024年下期の稼働を開始する予定で、先端領域の半導体製造対応を強化。半導体メーカーのほか関連キーワードはありません