【半導体】大日本印刷、3nm相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発

大日本印刷（DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3nm相当のフォトマスク製造プロセス関連キーワードはありません