大日本印刷、３ナノ半導体マスク開発 最先端のＥＵＶ露光装置に対応 - 時事ドットコム

大日本印刷は１２日、半導体のウエハーに回路を焼き付ける際に使う原版「フォトマスク」で、最先端の回路線幅３ナノメートル（ナノは１０億分の１）向けの関連キーワードはありません