DNP、3nm相当のフォトマスク製造プロセスを開発：EUVリソグラフィ向け - EE Times Japan

大日本印刷（DNP）は、3nm相当のEUV（極端紫外線）リソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発した。DNPは今後も、imecとの共同開発などを通じて、2nm関連キーワードはありません