DNPが3nm相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスクを開発：材料技術 - MONOist

大日本印刷は、3nmに相当する、極端紫外線リソグラフィ向けのフォトマスク製造プロセスを開発した。2024年下期には、マルチ電子ビームマスク描画装置を増設関連キーワードはありません