EUV用フォトマスク製造プロセス開発、DNPが加速：2nm世代のロジック半導体向け

大日本印刷（DNP）は、EUV（極端紫外線）リソグラフィに対応する、2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に始めた。2025年度関連キーワードはありません