ＤＮＰが量産へ…2ナノメートル世代のフォトマスク製造プロセス開発 - ニュースイッチ

大日本印刷（ＤＮＰ）は２７日、極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィーに対応した２ナノメートル（ナノは１０億分の１）世代のロジック半導体向けフォト関連キーワードはありません