大日本印刷、2nm以降の半導体フォトマスクに要求されるパターンの解像に成功 - PC Watch

大日本印刷(DNP)は12日、EUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外線)リソグラフィに対応した、2nm世代以降のロジック半導体フォトマスクに要求される微細な関連キーワードはありません