KURAGE online | 印刷 の情報 > 【半導体】大日本印刷、EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2nm世代以降の微細なパターンの ... 投稿日:2024年12月13日 大日本印刷(DNP)は、半導体製造の最先端プロセスのEUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外線)リソグラフィに対応した、2nm世代以降*1のロジック半導体向け関連キーワードはありません 続きを確認する