EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2nm世代以降の微細なパターンの解像に成功 - MONOist

大日本印刷は、半導体製造の最先端プロセスであるEUVリソグラフィに対応した、2nm世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細なパターンの解関連キーワードはありません