大日本印刷、２ナノ幅マスク開発本格化 ２７年度量産目指す―半導体 - 時事通信

大日本印刷は２７日、半導体のウエハー（基板）の回路形成に使う原版「フォトマスク」で、最先端の回路線幅２ナノメートル（ナノは１０億分の１）の半導体関連キーワードはありません