大日本印刷、2nm世代のEUV露光向けフォトマスク製造プロセス開発を本格化 - PC Watch

大日本印刷株式会社は、2nm世代ロジック半導体のEUV(極端紫外線)リソグラフィ(露光)向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。関連キーワードはありません